9 月， 佳能 推出了这项技术的第一个商业版本，有朝一日可能会颠覆最先进的硅芯片的制造。它被称为纳米压印光刻 （NIL），能够对小至 14 纳米的电路特征进行图案化，使逻辑芯片能够与目前正在量产的 Intel、AMD 和 Nvidia 处理器相媲美。

1月9日，立邦涂料控股株式会社（Nippon Paint Holdings，以下简称“立邦涂料”）发布公告称，公司根据从母公司立时国际有限公司（Nipsea International Limited或NIL）收到的报告确认， ...

背光模块制造厂瑞仪1月6日宣布，已完成对 NIL Technology ApS（简称 ...

光刻机的发展历程充满挑战，最前沿的EUV光刻机代表着第六代技术，用于7nm以下芯片的制造，而我们当前只有ArF光刻机可用。早前，上海微电子生产的90nm光刻机虽然量产，但如今显得有些落后。近期曝光的新型氟化氩光刻机，采用193nm波长，其分辨率达到了65nm，套刻精度更是小于等于8nm，标志着我们在ArF领域的技术已进入顶级水平。下一步，我们需要攻克浸润式DUV光刻机（也称ArFi光刻机），由于这 ...